GMP认证制药用纯化水设备要求

1、结构设计应简单、可靠、拆装简便。

2、为便于拆装、更换、清洗零件，执行机构的设计尽量采用的标准化、通用化、系统化零部件。

3、设备内外壁表面，要求光滑平整、无死角，容易清洗、灭菌。零件表面应做镀铬等表面处理，制药用水设备，以耐腐蚀，防止生锈。设备外面避免用油漆，以防剥落。

4、制备纯化水设备应采用低碳不锈钢或其他经验证不污染水质的材料。制备纯化水的设备应定期清洗，并对清洗效果验证。

影响去离子水设备电导率的因素有哪些

影响去离子水设备电导率的因素有哪些：

1、与水的溫度转变相关。由于温度上升，水的粘度减少，正离子的转移速率加速，因而测得导电率较高，相反就稍低，因此要开展校准，以温度20度时为对照品。

2、与水的水流量相关。由于测量导电率时将其电级插进被测的水里，水的水流量假如很低，水里的残渣会非常容易黏附在电级上，导致电级环境污染，因而，就危害测定导电率的性。

3、与水体环境污染危害相关。主要是水触碰气体，遭受空气中CO2、浮尘等的环境污染，水体越纯其可靠性越差，越非常容易被环境污染，进而使纯水电导率上升。有的纯储水箱由于沒有维护好，进而使导电率上升。为了更好地有统一的规范，以便比照，二级除盐纯水电导率的测量点，设在混和床出水出水的母管处，开展持续性的测量剖析。

纯水设备应用产品：电解电容生产制造铝铂及工作中件的清理。整流管生产制造.整流管负涂覆硫化物配液。显象管和阴射线生产制造.调料用纯水。黑与白显象管显示屏生产制造.玻壳清理.沉积.潮湿.洗膜.管颈清理用纯水。液晶显示屏的生产制造.屏面需用纯水清理和用纯水配液。晶体三管生产制造中关键用于清理单晶硅片，另有小量用于配置。集成电路芯片制造中高纯水清理单晶硅片。半导体器件.元器件.印刷线路板和集成电路芯片。LCD液晶显示器.PDP低温等离子显示器。高质量显象管.荧光粉生产制造。晶元原材料生产制造.生产加工.清理。超纯原材料和超纯化学药品.超纯化工原料。试验室和小试生产车间。车辆.家用电器.装饰建材产品表层喷涂等其他标准的表层处理用纯水。光学产品.别的新科技产品。电镀工艺(电镀金.镀金.塑料电镀.不锈钢.热镀锌等)用水。玻璃镀膜用高纯水。超声波频率清理用纯水，电泳原理用纯水。